原子沉積系統(tǒng)是一款緊湊型獨立的PC計算機控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶授權(quán)保護功能。系統(tǒng)為全自動的安全互鎖設(shè)計，并提供了強大的靈活性，
 

　　原子沉積系統(tǒng)的操作步驟：
 

　　1、開機：開普氮(壓力0.4-0.6MPa)、高純氮氣瓶(壓力小于0.1MPa)；開總電源；開水冷機。
 

　　2、放樣品：點擊“進氣”，待壓強升至1個大氣壓后，打開腔體，放入樣品。點擊“設(shè)置”，將流量重新設(shè)置為：20。
 

　　3、開機械泵：先打開機械泵電源開關(guān)，然后點擊“泵閥開”。4、設(shè)置溫度參數(shù)：點擊“設(shè)置”，開始設(shè)置溫度參數(shù)，例如1：200度；2：230度；11(水)：50度，或者11(臭氧)：0度；10(Al源)：0度。循環(huán)次數(shù)根據(jù)需要設(shè)置。流量：20。點擊“確定”，開始加熱，加熱時間不少于45min。
 

　　5、排水：加熱45min后，若之前用過水，而本次實驗用臭氧，則需排水。點擊“模式1”，將前驅(qū)體4的脈沖時間設(shè)為：1000ms，清洗時間設(shè)為：5s，關(guān)閉小窗，點擊“開始”，n個循環(huán)后，點擊“結(jié)束”，排水完成。
 

　　6、設(shè)置沉積模式參數(shù)：點擊“模式1”或者“模式2”，設(shè)置前驅(qū)體和水(或者臭氧)的脈沖時間和清洗時間。以沉積氧化鋁為例，前驅(qū)體3為鋁源，前驅(qū)體4為水(或者臭氧)，其他為空置，設(shè)置前驅(qū)體3的脈沖時間為：60ms，清洗時間設(shè)為：10s；設(shè)置前驅(qū)體4的脈沖時間為：50ms，清洗時間設(shè)為：30s。
 

　　7、設(shè)置載氣流量和循環(huán)次數(shù)：點擊“設(shè)置”，流量設(shè)置為：20；循環(huán)次數(shù)根據(jù)所需樣品厚度而定。
 

　　8、開始實驗：打開相應前驅(qū)體的手動閥，如果使用臭氧作為反應源，氣壓，開腔體，取出樣品。
 

　　10、抽真空：點擊“泵閥開”，氣壓下降后，點擊“進氣”，關(guān)閉高純氮的減壓閥，流量下降至1位數(shù)時，點“設(shè)置”，將將流量重新設(shè)置為：0。
 

　　(若下次實驗換另外的源，則需排空，具體操作：點擊“泵閥開”，氣壓下降后，點擊“進氣”，點擊“模式1”，將前驅(qū)體3的脈沖時間設(shè)為：500ms，清洗時間設(shè)為：5s，將前驅(qū)體4的脈沖時間設(shè)為：1000ms，清洗時間設(shè)為：10s，關(guān)閉小窗，點擊“開始”，100個循環(huán)后，點擊“結(jié)束”，排空完成。)
 

　　11、關(guān)儀器：點擊“設(shè)置”，將1、2和11(水)的溫度設(shè)為：0，將所用源的溫度設(shè)為：0。點擊“泵閥關(guān)”，關(guān)機械泵，關(guān)總電源，關(guān)普氮、關(guān)水冷。